Herstellung und Charakterisierung ultradünner ZrO2-basierter Schichten als Isolatoren in Metall-Isolator-Metall Kondensatoren..pdf

Herstellung und Charakterisierung ultradünner ZrO2-basierter Schichten als Isolatoren in Metall-Isolator-Metall Kondensatoren. PDF

Wenke Weinreich

Die Größenskalierung zur Effizienzsteigerung von mikroelektronischen Schaltkreisen ist in Zukunft nur bedingt möglich. Zur Optimierung der Leistungsfähigkeit von Speichern wird daher die Änderung des zugrundeliegenden physikalischen Prozesses der Informationsspeicherung angestrebt. Bis zur produktiven Einsatzfähigkeit neuer Speicherarten müssen bestehende Speichertypen wie der DRAM weiterentwickelt werden. Die Funktion des DRAM beruht auf der Ladungsspeicherung in einem Kondensator, wobei vor allem das Isolator- sowie das Elektrodenmaterial erforscht werden. Die vorliegende Arbeit zeigt ein grundlegendes Bild über die physikalischen und elektrischen Eigenschaften von ZrO2-basierten Schichten, die über Atomlagenabscheidung hergestellt wurden, als Dielektrikum in planaren Kondensatoren mit TiN als Elektrodenmaterial und bildet die Voraussetzung für die Anwendung dieses Schichtsystems in DRAM Speichern zukünftiger Generationen. Es werden neue Erkenntnisse zum Wachstumsverhalten des ZrO2, zur morphologischen Beschaffenheit sowie zur chemischen Zusammensetzung der Grenzflächen geliefert. Außerdem erfolgt die Analyse des Stromflusses durch die Kondensatoren, wobei das Phänomen der polaritätsabhängigen Leckstromasymmetrie in den symmetrisch aufgebauten Kondensatoren auf ALD Wachstumscharakteristiken zurückgeführt werden kann.

Im Folgenden finden Sie, gegliedert nach dem Department dem der betreuende Lehrstuhl zugeordnet ist, eine Auflistung aller abgeschlossenen Promotionsvorhaben an der Technischen Fakultät im Berichtszeitraum 01. hulewotorene - Google Sites

7.27 MB DATEIGRÖSSE
9783839605547 ISBN
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Aktuelle Bewertungen

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Sofya Voigtuh

Modell eines Metall/Isolator/Silizium-Systems interpretiert werden. ... zeigten die TiO2-Schichten einige interessante Eigenschaften, die nur mit ... 3 Charakterisierung der Hoch-K-Kondensatoren mit Nitridpuffer ... Im zweiten Teil des Kapitels werden die Herstellung der Kondensatoren und die ... tridpuffer hier etwas dünner. 6. Dez. 2011 ... gate stacks of MOSFETs (metal-insulator-semiconductor-field-effect transistor). ... 4.1 Thermische Stabilität von MOS-Kondensatoren . ... Germanium nur in Form dünner Schichten auf Siliciumsubstraten ... Isolatoren und Leitern. ... charakterisiert dabei, wie schnell der Strom in einem MOSFET abfällt, wenn ...

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Mattio Müllers

Herstellung und Charakterisierung ultradünner ZrO2 ... Die Auflösung von Interessenkonflikten infolge von Doppelmandaten im Aufsichtsrat einer Aktiengesellschaft unter Berücksichtigung der Rechtslage in Gr [PDF]

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Noels Schulzen

Unterstützung bei der Impedanz-Charakterisierung danken. ... und einfache Herstellung der dielektrischen Schichten in einem einzelnen Prozessschritt ... Das moderne Verständnis gedruckter Elektronik beinhaltet Leiter, Halbleiter und Isolatoren und ... sogenannter Metal-Insulator-Metal (MIM) Kondensatoren, mit vertikaler ...

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Jason Leghmann

Herstellung und Charakterisierung ultradünner ZrO2-basierter Schichten als Isolatoren in Metall-Isolator-Metall Kondensatoren Wenke Weinreich Hrsg.: Fraunhofer CNT, Dresden 2013, 193 S., zahlr. Abb. u. Tab., Softcover Fraunhofer Verlag ISBN 978-3-8396-0554-7 kostenloser Download als PDF-Datei

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Jessica Kolhmann

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